{"id":1268,"date":"2025-12-04T05:40:38","date_gmt":"2025-12-04T05:40:38","guid":{"rendered":"https:\/\/isn514upfp.wpdns.site\/?p=1268"},"modified":"2026-07-29T20:28:58","modified_gmt":"2026-07-29T20:28:58","slug":"maquina-de-marcado-laser-uv-portatil","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/vanklaser.com\/es\/portable-uv-laser-marking-machine\/","title":{"rendered":"M\u00e1quina port\u00e1til de marcado l\u00e1ser UV de 355 nm, 5-20 W"},"content":{"rendered":"

Marcado l\u00e1ser UV port\u00e1til de 355 nm<\/h2>\n\n\n\n

Esta m\u00e1quina port\u00e1til de marcado l\u00e1ser UV es una estaci\u00f3n de trabajo galv\u00e1nica m\u00f3vil de estructura abierta, dise\u00f1ada en torno a una fuente de estado s\u00f3lido de 355 nm. Muchos pol\u00edmeros, recubrimientos, composiciones de vidrio y componentes electr\u00f3nicos absorben la longitud de onda de 355 nm con mayor eficacia que la de 1064 nm, lo que permite reducir la zona afectada por el calor para realizar un marcado superficial de precisi\u00f3n. No es un sistema sin generaci\u00f3n de calor ni de uso manual: todos los materiales, accesorios, m\u00e9todos de extracci\u00f3n y controles de seguridad del l\u00e1ser deben ser homologados antes de la producci\u00f3n.<\/p>\n\n\n

\"Estaci\u00f3n<\/p>\n<\/map>\n\n\n

\"Capacidades<\/map><\/p>\n\n\n\n

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\"Detalle<\/figure>\n\n\n\n

Marcado fino con bajo aporte t\u00e9rmico<\/h2>\n\n\n\n

Una fuente de 355 nm y una lente F-theta adaptada pueden producir un punto de enfoque preciso. El ancho de l\u00ednea, el tama\u00f1o de los caracteres y la tolerancia de la pieza acabada se verifican en el campo seleccionado y en la muestra del cliente.<\/p>\n<\/div>\n\n\n\n

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\"Flujo<\/figure>\n\n\n\n

Software espec\u00edfico para el controlador<\/h2>\n\n\n\n

El controlador y el software incluidos gestionan los dise\u00f1os, los datos variables y la correcci\u00f3n de la lente. LightBurn Pro es opcional \u00fanicamente para las placas, los controladores y los protocolos de fuente UV compatibles actualmente.<\/p>\n<\/div>\n\n\n\n

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\"Marcado<\/figure>\n\n\n\n

Piezas planas y piezas con utillaje<\/h2>\n\n\n\n

El campo de galvo est\u00e1ndar es el m\u00e1s adecuado para piezas planas situadas en el foco calibrado. Los cilindros requieren un sistema rotativo compatible; las superficies curvas o con variaciones de altura requieren una geometr\u00eda homologada, una estrategia de enfoque espec\u00edfica o un sistema 3D con presupuesto aparte.<\/p>\n<\/div>\n<\/div>\n\n\n\n

Especificaciones del marcador UV port\u00e1til<\/h2>\n\n\n\n
Especificaciones<\/strong><\/th>Estaci\u00f3n de trabajo port\u00e1til de marcado UV<\/strong><\/th><\/tr><\/thead>
Modelo<\/strong><\/td>VankMark-UV-P<\/td><\/tr>
Formato de m\u00e1quina<\/strong><\/td>Estaci\u00f3n de trabajo m\u00f3vil de estructura abierta y dividida; no es un l\u00e1ser port\u00e1til<\/td><\/tr>
Longitud de onda<\/strong><\/td>L\u00e1ser UV de estado s\u00f3lido de 355 nm<\/td><\/tr>
Opciones de potencia nominal<\/strong><\/td>5 \/ 10 \/ 15 \/ 20 W, tal y como se indica en el presupuesto<\/td><\/tr>
Fuente l\u00e1ser<\/strong><\/td>En el presupuesto se confirman el fabricante exacto, el modelo, el rango de frecuencias, la anchura del pulso, la calidad del haz y la garant\u00eda.<\/td><\/tr>
Campo de marcado<\/strong><\/td>70 \u00d7 70 \/ 110 \u00d7 110 \/ 150 \u00d7 150 \/ 175 \u00d7 175 \/ 200 \u00d7 200 \/ 300 \u00d7 300 mm, tal y como se indica; no todos los campos se adaptan a todos los requisitos de potencia o de foco<\/td><\/tr>
Lente F-theta<\/strong><\/td>Lente de 355 nm adaptada al campo, al tipo de haz y a la distancia de trabajo<\/td><\/tr>
Enfoque \/ Eje Z<\/strong><\/td>Ajuste manual de la altura y el enfoque, salvo que se especifique una opci\u00f3n motorizada; es necesario volver a calibrar el sistema tras desplazarlo o cambiar los elementos \u00f3pticos.<\/td><\/tr>
Cabezal de escaneo<\/strong><\/td>Galvan\u00f3metro de doble eje compatible con rayos UV con archivo de correcci\u00f3n espec\u00edfico para lentes<\/td><\/tr>
Controlador<\/strong><\/td>JCZ\/EZCAD2, DLC\/EZCAD3, BSL\/SeaCAD u otro controlador seg\u00fan lo presupuestado; revisi\u00f3n exacta y protocolo de origen confirmados<\/td><\/tr>
Software<\/strong><\/td>Software de control incluido; LightBurn Pro solo si la versi\u00f3n actual es compatible con la placa, el controlador y la fuente de rayos UV suministrados.<\/td><\/tr>
Flujo de trabajo de archivos<\/strong><\/td>Las importaciones de datos vectoriales, r\u00e1ster, de texto, en serie, de c\u00f3digos de barras y de Data Matrix est\u00e1n sujetas a las pruebas realizadas con el software y los archivos facilitados.<\/td><\/tr>
Velocidad de producci\u00f3n<\/strong><\/td>Se determina en funci\u00f3n de la muestra en cuanto a material, dise\u00f1o, densidad de relleno, contraste o profundidad y l\u00edmite de calor; la velocidad de desplazamiento del esc\u00e1ner no es el tiempo de ciclo.<\/td><\/tr>
Calidad de la marca<\/strong><\/td>Se han verificado el ancho de la l\u00ednea, el car\u00e1cter m\u00e1s peque\u00f1o, la distorsi\u00f3n del campo, la repetibilidad y el efecto de la superficie en muestras homologadas.<\/td><\/tr>
Refrigeraci\u00f3n<\/strong><\/td>Enfriador de agua activo adaptado a la fuente, salvo que la fuente en cuesti\u00f3n especifique otro m\u00e9todo<\/td><\/tr>
Rotatorio \/ Accesorios<\/strong><\/td>Soportes opcionales para piezas planas, anulares o cil\u00edndricas, seleccionados en funci\u00f3n del material, el di\u00e1metro, el peso, el espacio libre y la indexaci\u00f3n<\/td><\/tr>
Extracci\u00f3n<\/strong><\/td>Extracci\u00f3n o filtraci\u00f3n local de humos y part\u00edculas, adaptada al material, al recubrimiento y al ciclo de trabajo<\/td><\/tr>
Seguridad con el l\u00e1ser<\/strong><\/td>Puesto de trabajo de clase 4 con estructura abierta, salvo que se suministre una carcasa protectora homologada; el \u00e1rea controlada, las protecciones, los enclavamientos, las gafas de protecci\u00f3n y la formaci\u00f3n del personal son espec\u00edficos de cada emplazamiento.<\/td><\/tr>
Servicio el\u00e9ctrico<\/strong><\/td>Se han comprobado la tensi\u00f3n, la frecuencia, la carga conectada, la puesta a tierra y el suministro del enfriador antes del env\u00edo.<\/td><\/tr>
Entorno operativo<\/strong><\/td>Los l\u00edmites de temperatura, humedad, polvo y condensaci\u00f3n se rigen por los manuales definitivos del equipo, el controlador y la enfriadora.<\/td><\/tr>
Aceptaci\u00f3n<\/strong><\/td>Aprobaci\u00f3n de los materiales y las maquetaciones del cliente en cuanto a calidad de la marca, legibilidad, tiempo de ciclo, refrigeraci\u00f3n, documentaci\u00f3n sobre los dispositivos de sujeci\u00f3n y seguridad<\/td><\/tr><\/tbody><\/table><\/figure>\n\n\n